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KRi 大口径射频离子源 RFICP 380
- 更新时间：2023-07-09
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叶南晶 女士
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大口径射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.
KRi 射频离子源 RFICP 380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV
6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用
射频离子源 RFICP 380 技术规格:
阳极 | 电感耦合等离子体 |
大阳极功率 | >1kW |
大离子束流 | > 1000mA |
电压范围 | 100-1500V |
离子束动能 | 100-1200eV |
气体 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-50sccm |
压力 | < 0.5mTorr |
离子光学, 自对准 | OptiBeamTM |
离子束栅极 | 38cm Φ |
栅极材质 | 钼 |
离子束流形状 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 38.1 cm |
直径 | 58.2 cm |
锁紧安装法兰 | 12”CF |
射频离子源 RFICP 380 基本尺寸:
上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.
作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足材料刻蚀需求!
若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生
