离子源用于真空电子束蒸镀设备

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KRI 离子源应用于真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System
真空环境的特征为其真空压力低于 10-8 至 10-12 torr, 真空环境对于科学研究非常重要, 因为实验通常要求在整个实验过程中, 表面应保持状态和使用低能电子和离子的实验技术的使用, 而不会受到气相散射的过度干扰, 在这样真空环境下使用电子束蒸镀可以提供高质量的薄膜. 上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源可以在蒸镀过程中实现预清洁和辅助镀膜的作用.


如上图是真空电子束蒸镀设备, 针对真空和高温加热设计基板旋转镀膜机构, 使用陶瓷培林旋转, 并在内部做水冷循环来保护机构以确保长时间运转的稳定性.

上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP  系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.